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J-GLOBAL ID：201302264314325348   整理番号：13A1638592

射出ナノ成形を利用したサブ波長反射防止ポリマーフィルムの迅速な複製と容易な変性と多層コーティングの光学的性質

Rapid replication and facile modulation of subwavelength antireflective polymer film using injection nanomolding and optical property of multilayer coatings

著者 (3件)： FUH Yiin-Kuen (National Central Univ., Dep. of Mechanical Engineering, 32001, Jhongli, Taiwan) ,  PENG Cheng-Chang (National Central Univ., Graduate Inst. of Energy Engineering, 32001, Jhongli, Taiwan) ,  HUANG Chieh-Tse (National Central Univ., Inst. of Opto-mechatronics Engineering, 32001, Jhongli, Taiwan)
資料名： Nanoscale Research Letters (Web)  (Nanoscale Research Letters (Web))
巻： 8  号： 1  ページ： 1-8  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： U7001A  ISSN： 1931-7573  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリカーボネート(PC)を使用した均一性の高いナノテクスチャリングサブ波長構造の,迅速で費用対効果が高く高スループットのプロセスを,射出ナノ成形を介して実現した。プロセスは,大面積にわたりナノホールアレイ(NHA)表面形状(ナノホールの深さ,直径および周期性)の正確な制御を可能にし,それにより,ユーザー定義で機能的性能の基板を製造するための汎用性の高いプラットフォームを提示した。具体的には,PC基板の光学特性を体系的に特性化し,そしてNHAの深さの変調を介して同調した。アスペクト比サブミクロン穴は,容易に変調でき,単純に成形温度の調整により実験的に証明した。700nm程度の周期で200~400nmの範囲でナノテクスチャ深さを確実に作製した。それぞれ400と550nmの波長でナノホールの400nm深さで10.2%および8.9%のオリジナルのベアフィルムから1.4%および2.1%へ,製造されたPCフィルムは,反射率を低減できた。エッチングにより調節可能な高さのナノピラーアレイと従来の蛾のようなナノ構造と比較して,本論文では,かなり時間を短縮し高さ調節機能が容易な同様の反射防止機能を達成するためにサブミクロン穴の容易なルートを提案した。ナノ成形NHAへの誘電体層と金属層の多層コーティングの効果を実行し,電位センシング用途を探求した。Copyright 2013 Fuh et al.; licensee Springer. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 波長 ,  ポリカーボネート ,  *反射防止膜 ,  射出成形 ,  ナノメータ加工 ,  高分子加工 ,  *アレイ ,  *ナノ構造 ,  反射率 ,  光反射 ,  細孔 ,  基板 ,  周期構造 ,  射出成形機 ,  高分子加工機 ,  高分子薄膜 ,  プラスチックフィルム ,  多層膜 ,  サブ波長
準シソーラス用語： ナノホール ,  *ナノホールアレイ ,  反射防止構造

分類 (2件)： 射出成形  (YH04050Y) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 射出 ,  サブ波長 ,  反射防止 ,  ポリマーフィルム ,  複製 ,  変性 ,  多層コーティング ,  光学的性質