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J-GLOBAL ID:201302264536016386   整理番号:13A1564589

酸化物半導体TFT最前線 酸化物半導体TFT:装置から見たディスプレイバックプレーン技術の革命

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巻: 19  号: 10  ページ: 54-61  発行年: 2013年10月01日 
JST資料番号: L4454A  ISSN: 1341-3961  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ディスプレイ産業での酸化物半導体TFT技術の急速な採用による課題と可能性について,特にApplied Mterial社AKTグループの大面積薄膜成膜装置に焦点を当てて紹介した。アモルファス酸化物半導体の発見と,大面積ディスプレイデバイス上の利点を簡単に説明し,AKTグループのプラズマCVDおよびPVD装置の改良,さらに開発の進捗状況について,単層の能力だけでなく,酸化物TFT製造装置能力にも焦点を当てて説明した。その後,アモルファス酸化物半導体TFTの安定性を高める大面積PVDプロセスによるAl2O3成膜など,有機EL技術用の新しいプロセスと,最後に高移動度TFTに関するAKTグループの研究開発状況を紹介した。
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分類 (2件):
分類
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酸化物の結晶成長  ,  表示機器 
タイトルに関連する用語 (4件):
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