拡張した面積へのイオン支援堆積のための高イオン電流密度プラズマ源

GIBSON D.; WADDELL E.; PLACIDO F.; CHILD D.

文献

J-GLOBAL ID：201302264561004147 整理番号：13A0228914

拡張した面積へのイオン支援堆積のための高イオン電流密度プラズマ源

High Ion Current Density Plaska Source for Ion Assisted Deposition Over Extended Areas

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資料名：
巻： 55th ページ： 305-310 発行年： 2012年
JST資料番号： E0063B ISSN： 0737-5921 資料種別：会議録 (C)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

大面積への被覆が可能なプラズマ蒸着装置およびこの装置によって作製した光学用薄膜の特性について記した。この装置はLaB₆からなる加熱ホローカソードを用いるもので大きなプラズマ電流密度を得ることができる。このプラズマ源と出力の特徴について示した後,成膜実験の結果を示した。ここでは,TiO₂,Ta₂O₃およびSiO₂の屈折率に及ぼすプラズマイオン電流密度の関係,プラズマ支援および基板加熱TiO₂蒸着の比較,プラズマ源電圧による屈折率と吸収端変動,プラズマ支援蒸着酸化物の分散および多層膜蒸着について示した。

薄膜成長技術・装置

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