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J-GLOBAL ID：201302264678111432   整理番号：13A0153446

イオンスパッタリングによるバルク金属ガラスのナノメータからマイクロメータスケールの不均質エッチング

Nanometer to micrometer scaled inhomogeneous etching of bulk metallic glasses by ion sputtering

著者 (4件)： DENG J.w. (Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, 72 Wenhua Road, Shenyang ...) ,  DU K. (Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, 72 Wenhua Road, Shenyang ...) ,  WU B. (Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, 72 Wenhua Road, Shenyang ...) ,  SUI M.l. (Inst. of Microstructure and Property of Advanced Materials, Beijing Univ. of Technol., Beijing 100124, CHN)
資料名： Intermetallics  (Intermetallics)
巻： 34  ページ： 75-82  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： W0672A  ISSN： 0966-9795  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： バルク金属ガラス(BMG)材料の微視的およびメゾスコピック構造を忠実に調べるために,BMG試料のナノメータからマイクロメータスケールの不均質コントラストを透過型電子顕微鏡法(TEM),原子間力顕微鏡法(AFM)および走査型電子顕微鏡法(SEM)によって詳細に研究した。イオンミリングは表面粗さを誘発しパターン形成はBMG試料のTEM像の不均質コントラストの源であることが判明する。加えて,高分解能TEMおよびX線エネルギー分散分光法研究は試料の構造あるいは組成変化を排除する。飽和パターンサイズばかりでなくイオンミリング中の動的粗化プロセスをZr,Cu,FeおよびMg基BMGから示す。BMG試料のこの不均質エッチングの理解はBMGの微視的およびメゾスコピック不均質性に関する最近の徹底的なTEM研究のために重要である。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *非晶質合金 ,  *結晶構造 ,  微細構造 ,  イオンビームスパッタリング ,  エッチング ,  不均一性 ,  *バルク金属ガラス

分類 (1件)： 非晶質金属の構造  (BK04020D)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンスパッタリング ,  バルク金属ガラス ,  ナノメータ ,  不均質 ,  エッチング