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J-GLOBAL ID：201302266788634751   整理番号：13A1749096

スループットとCDUの間のトレードオフに対する仮想EUVフォトレジストの最適化

Optimization of a virtual EUV photoresist for the trade-off between throughput and CDU

著者 (3件)： SMITH Mark D. (KLA-Tencor Corp.) ,  BIAFORE John (KLA-Tencor Corp.) ,  FANG Chao (KLA-Tencor Corp.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8682  ページ： 868203.1-868203.12  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多数の仮想フォトレジストに対して,クリティカルディメンジョン均一性(CDU)と露光量対大きさのトレードオフをシミュレーションし,28,26,22nmのハーフピッチ(HP)コンタクトに対して,CD均一性の散布図を生成した。EUVに対して,光子制限ショット雑音に典型的な形状を持つ下界エンベロープを観測した。この下界は28nmHPで最も明確で,この領域で広い露光範囲に対し多数の試料を評価した。ArFレジストではこのような明確な下界は観測されず,他の雑音源がCDUを支配することを意味した。

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  長さ ,  均一性 ,  極端紫外線 ,  *フォトリソグラフィー ,  スループット ,  *最適化 ,  ショット雑音 ,  用量 ,  露光 ,  計算機シミュレーション
準シソーラス用語： CD均一性 ,  クリティカルディメンジョン ,  露光量

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： スループット ,  トレードオフ ,  仮想 ,  EUVフォトレジスト ,  最適化