液浸スキャナの露光毎補正による先端的オーバレイ安定性制御

HAN Jinkyu; HEO Jinseok; HWANG Chan; YEO Jeongho

文献

J-GLOBAL ID：201302267011902341 整理番号：13A1758388

液浸スキャナの露光毎補正による先端的オーバレイ安定性制御

Advanced overlay stability control with correction per exposure on immersion scanners

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=13A1758388&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=13A1758388&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0943A") }}

著者 (4件)： , , ,
資料名：
巻： 8681 号： Pt.1 ページ： 86811D.1-86811D.6 発行年： 2013年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

半導体集積回路のパターンが小さくなるにつれ,リソグラフィー装置のオーバレイと焦点の許容量が遥かに小さくなった。スキャナの性能を向上させるために多くの努力が払われている。その一つにBaseliner安定性制御がある。Baselinerは固定したレイアウトを持つ基準ウエハから高次グリッドモデルを作成できる。本論文では,オーバレイと焦点を同時に測定するための新しい基準ウエハを示した。また,レイアウトの違いからくるエラーを補償するための先端的オーバレイ安定性制御を提案した。最後に,格子監視と同時に測定した焦点監視の結果を論じた。

, , , , , , , ,
,

固体デバイス製造技術一般

, , , ,

前のページに戻る