文献

J-GLOBAL ID：201302267058038718   整理番号：13A1073422

ポリスチレン薄膜の簡易ワンステップ光パターニング

Facile One-step Photopatterning of Polystyrene Films

著者 (1件)： 生方俊 (横浜国大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2M16IL  発行年： 2013年05月14日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  *パターン形成 ,  *表面構造 ,  表面性状 ,  *フォトマスク ,  原子間力顕微鏡 ,  *紫外線照射 ,  露光 ,  微細加工 ,  表面分析 ,  膜厚 ,  *表面レリーフ ,  *構造 ,  *マスク
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  UV照射

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリスチレン ,  薄膜 ,  簡易 ,  パターニング