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J-GLOBAL ID：201302268424944901   整理番号：13A1769693

薄膜中及び薄膜上のポジトロニウムの3光子自己消滅比の測定 薄膜モルフォロジーを決定するためのツール

Measuring the three-photon self-annihilation fraction of positronium in and above thin films: A tool for determining film morphology

著者 (2件)： TOWNROW S. (Dep. of Physics, Univ. of Bath, Bath BA2 7AY, GBR) ,  COLEMAN P. G. (Dep. of Physics, Univ. of Bath, Bath BA2 7AY, GBR)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 84  号： 10  ページ： 103908-103908-5  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オルトポジトロニウムを形成し,続いて3ガンマ光子に崩壊する薄膜サンプル上の陽電子F事象の割合を評価する方法を記述する。その方法は,2つの関連した現象:ゲルマニウム検出器の光ピークにおける約511keVの2ガンマ光子の放出を含む消滅事象の数の減少,及び395-505keVのエネルギー範囲の3ガンマ光子への崩壊数の増加の測定を含む。生データへの多くの体系的補正を施した後,これらの測定は,既知のF値を持つサンプルに対する較正の必要がなく,Fの絶対値の決定が可能であり,それによって異なる条件で測られた異なるジオメトリーのサンプルの交換の問題を回避することができる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポジトロニウム ,  三重項 ,  *γ崩壊 ,  *陽電子消滅 ,  Ge半導体検出器 ,  γ線スペクトル ,  分光分析 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  蒸着膜 ,  薄膜 ,  氷 ,  基板 ,  銅
準シソーラス用語： γスペクトロメトリー ,  オルソポジトロニウム ,  金属基板 ,  氷被覆 ,  表面モルフォロジー

分類 (3件)： 電磁遷移(ガンマ崩壊)  (BG03020K) ,  陽電子消滅  (BK16052L) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜 ,  ポジトロニウム ,  光子 ,  自己 ,  モルフォロジー ,  ツール