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J-GLOBAL ID：201302268768815558   整理番号：13A0248310

容易なゾル-ゲル法による高伝導度ニッケル酸化物薄膜

High conductivity nickel oxide thin films by a facile sol-gel method

著者 (3件)： GUO Wen (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pusan National Univ., San 30 Jangjeon-Dong, Geumjeong-Gu, Busan 609-735, KOR) ,  HUI K.n. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Pusan National Univ., San 30 Jangjeon-Dong, Geumjeong-Gu, Busan 609-735, KOR) ,  HUI K.s. (Dep. of Systems Engineering & Engineering Management, City Univ. of Hong Kong, 83 Tat Chee Avenue, Kowloon Tong ...)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 92  ページ： 291-295  発行年： 2013年02月01日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 容易なゾル-ゲル法を用いてLiをドープしたNiO薄膜(Li:NiO)をガラス基板上に堆積した。Liドープ濃度がLi:NiO膜の構造,電気的および光学的特性に与える影響を調べた。Li:NiO膜の構造特性をX線回折(XRD)および電界放出型走査電子顕微鏡により評価した。XRDは,Li:NiO膜が多結晶ブンゼナイト構造を持つことを明らかにした。Li:NiO膜の表面形態は,ランダム配向した形態を持つナノ結晶粒を示した。比抵抗は,0.11mol%の1.33kΩcmまで大幅に低下し,それは無添加のNiO膜の値よりも一桁小さい。平均透過率は,Liドーピング濃度が0.02mol%から0.19mol%まで上昇するのに伴い70%から60%まで低下した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化ニッケル ,  酸化物 ,  *薄膜 ,  *リチウム化合物 ,  *ドーピング ,  *ゾル-ゲル法 ,  塩化ニッケル ,  塩化リチウム ,  脂肪族アルコール ,  ポリカルボン酸 ,  基板 ,  ガラス ,  スピンコーティング ,  熱処理 ,  酸素 ,  *酸化 ,  膜厚 ,  膜構造 ,  *電気的性質 ,  形態 ,  表面構造 ,  *電気抵抗率 ,  *透過率 ,  脂肪族カルボン酸 ,  ヒドロキシ酸
準シソーラス用語： 酸化物薄膜 ,  比抵抗 ,  表面形態

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  光物性一般  (BM08010A)

物質索引 (2件)： クエン酸 ,  ブタノール

タイトルに関連する用語 (4件)： ゾル-ゲル法 ,  伝導度 ,  ニッケル ,  酸化物薄膜