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J-GLOBAL ID：201302268796578189   整理番号：13A0251770

AFM応用のための自己先鋭化ナノシリコン先端をもつ片持梁の作製

Fabrication of cantilever with self-sharpening nano-silicon-tip for AFM applications

著者 (4件)： LI Jia-Dong (Chinese Acad. of Sciences, International Lab. for Adaptive Bio-nanotechology, Suzhou Inst. of Nano-tech and ...) ,  XIE Jie (Chinese Acad. of Sciences, International Lab. for Adaptive Bio-nanotechology, Suzhou Inst. of Nano-tech and ...) ,  XUE Wei (Chinese Acad. of Sciences, International Lab. for Adaptive Bio-nanotechology, Suzhou Inst. of Nano-tech and ...) ,  WU Dong-Min (Chinese Acad. of Sciences, International Lab. for Adaptive Bio-nanotechology, Suzhou Inst. of Nano-tech and ...)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 19  号： 2  ページ： 285-290  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)応用のための,ナノシリコン先端をもつ片持梁の作製用の,ウェットエッチングによる簡易で高歩留りの方法を述べる。特別の五角形エッチングマスク設計を用いる自己先鋭化異方性ウェットエッチング技術により,良好に制御された寸法をもつナノシリコン先端を作製した。エッチングマスクの設計を変更し,且つ作製プロセスのエッチング時間を調整することにより,要求に従う片持梁のばね定数を容易に実現できた。AFMプローブのために,90%もの高歩留りを2インチウエハで実現できた。片持梁上の先端の高さは10~15μmであり,各ナノシリコン先端の頂点は,典型的に5~10nmの曲率半径を有する。片持梁のばね定数を,0.8~120N m^-1の範囲内に良好に制御できた。作製したAFMプローブは,研究室で入手できる市販のプローブに匹敵する高品質のAFM画像を生成できた。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  *エッチング ,  ナノ構造 ,  ケイ素 ,  端部 ,  片持梁 ,  プローブ ,  形状測定 ,  *マイクロマシニング ,  光学顕微鏡法 ,  電子顕微鏡観察 ,  *顕微鏡観察
準シソーラス用語： 自己先鋭化 ,  先端

分類 (3件)： 顕微鏡法  (BK01040E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (7件)： AFM ,  応用 ,  自己 ,  先鋭化 ,  シリコン ,  片持梁 ,  作製