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J-GLOBAL ID：201302269691759206   整理番号：13A1484981

真空薄膜蒸着システムのための酸-アルカリ洗浄剤の代替としてのイオン-プラズマ洗浄モジュール

Ion-Plasma Cleaning Module for Vacuum Thin-film Deposition Systems as Alternative to Acid-alkaline Cleaners

著者 (2件)： SHEVCHENKO E.F. (North Caucasus Federal Univ., RUS) ,  SHEVCHENKO M.Yu. (North Caucasus Federal Univ., RUS)
資料名： International Journal of Plasma Environmental Science & Technology  (International Journal of Plasma Environmental Science & Technology)
巻： 7  号： 2  ページ： 157-162  発行年： 2013年07月 
JST資料番号： L6832A  ISSN： 1881-8692  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 開発したイオンプラズマモジュールを用い真空コータ中においてイオンプラズマ基板洗浄を行い,機能性超小形回路薄膜層の接着強度を増強することができた。3Dイオン電流密度制御システムを用い高エネルギー効率でイオンプラズマ洗浄を行った。液体洗浄をイオンプラズマ洗浄に置き換えることにより,品質改善(親水性,接着強度,処理の均一性)に加え,材料経費を大きく低減することができた。

シソーラス用語： *放電洗浄 ,  接着強さ ,  エネルギー効率 ,  改良 ,  親水性 ,  超小形回路 ,  真空蒸着 ,  基板 ,  薄膜回路
準シソーラス用語： イオンプラズマ ,  *イオンプラズマ洗浄 ,  *プラズマ洗浄 ,  接着強度 ,  品質改善

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (19件)：

• J. J. Licari and L. R. Enlow, Hybrid microcircuit technology handbook, 2nd edition. Westwood, NJ, Noyes Publications, 1998.
• E. Kanegsberg, Handbook for critical cleaning, 2nd edition. CRC Press, 2011.
• A. Pizzi and K. L. Mittal, The handbook of adhesive technology, 2nd edition, NY, Dekker, 2003.
• B. Straumal, N. Vershinin, S. Tishin, S. Khajutin, and W. Gust, “Ionic treatment of the large-area substrates by hall current accelerator,” Uzbek Journal of Physics, vol. 2, pp. 95-99, 2000.
• A. Belkind and S. Gershman, “Plasma Cleaning of Surfaces,” Vacuum & Coating Technology, November 2008, pp. 46-57, 2008.

タイトルに関連する用語 (9件)： 真空 ,  薄膜蒸着 ,  酸 ,  アルカリ ,  洗浄剤 ,  代替 ,  イオン ,  プラズマ洗浄 ,  モジュール