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J-GLOBAL ID:201302270198854150   整理番号:13A1494386

γ-線照射に対するピロリドン誘導体の安定性

Stability of pyrrolidone derivatives against γ-ray irradiation
著者 (8件):
資料名:
巻: 55  号:ページ: 1739-1745  発行年: 2012年 
JST資料番号: C2575A  ISSN: 1674-7291  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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HNO3培地中のウラン(VI)及びプルトニウム(IV,VI)種の沈澱剤として使用することになっているN-アルキル化ピロリドン誘導体(NRPs)の安定性を評価するために,若干の候補NRPsにγ-線を照射した。低い疎水性をもつNRPsの1つである,2モルのN-n-ブチル-2-ピロリドン(NBP)を含む最大6モルのdm3(=M)のHNO3溶液への照射から,最大3モルのHNO3試料中NBPの残存率は同様に線形で減少することが判った。NBPのおよそ20%が1MGyにおける照射の後に分解することが判った。UO22+(P.R.%)の沈殿比率の減少が穏やかであったこと,そして,P.R.値が相対的にNBPの残存率に従っていたことも判った。他方,6モルのHNO3中で照射した試料の分解はより顕著であることが判った。分解した化合物の分析から,γ線照射によるHNO3中のNBPの分解は,HNO3を起源とする酸素原子の添加によるピロリドン環の開裂から開始し,その後逐次的酸素添加によって鎖式化合物の形成が続き,最終的にシュウ酸及び酢酸が生成することを提案した。3モルのHNO3中の他のNRPsの安定性は,0.5MGy以上で照射したより高い疎水性をもつNRPsを含む試料のより低いP.R.値を除いて,NBPのものとほぼ同等であると評価された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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