文献

J-GLOBAL ID：201302273329889727   整理番号：13A0487260

露光時間に関するエッチング測度の変化を利用した3D PTFE微細構造の製造

Fabrication of 3-D PTFE microstructures utilising change of etching rate with respect to exposure time

著者 (2件)： HORADE Mitsuhiro (Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, 464-8602, Nagoya, JPN) ,  SUGIYAMA Susumu (Ritsumeikan Univ., 1-1-1 Noji-Higashi, 525-8577, Kusatsu, Shiga, JPN)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 19  号： 3  ページ： 351-356  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,シンクロトロン放射(SR)切断を用いた横断面伝送に対する平面パターン(PCT)手法による三次元(3D)ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)微細構造を製造した。そのエッチング測度は,増大する増大するSR露光とともに増大することを見つけた。このことは,表面からのフッ化炭素ガスの排出により証明されているPTFE表面の加熱のために生じていた。PTFE手法を用いることにより,多重スキャタリング速度によりSR露光のエネルギー分布を変化させることで,各種の3D PTFE微細構造形状を生成することに成功を収めた。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ポリテトラフルオロエチレン ,  *微細構造 ,  *エッチング ,  シンクロトロン放射 ,  エネルギー分布 ,  露光 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  微細加工 ,  シンクロトロン ,  三次元
準シソーラス用語： フッ化炭素 ,  横断面

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 露光時間 ,  エッチング ,  測度 ,  3D ,  PTFE ,  微細構造