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J-GLOBAL ID：201302277031613880   整理番号：13A0701939

対数正規サイズ分布する自立シリコンナノ結晶の超高スループットプラズマプロセシング

Ultrahigh throughput plasma processing of free standing silicon nanocrystals with lognormal size distribution

著者 (8件)： DOGAN Ilker (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD) ,  KRAMER Nicolaas J. (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD) ,  WESTERMANN Rene H. J. (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD) ,  DOHNALOVA Katerina (Van der Waals-Zeeman Inst., Univ. of Amsterdam, Sci. Park 904, 1098 XH Amsterdam, NLD) ,  SMETS Arno H. M. (Photovoltaic Materials and Devices Lab., Delft Univ. of Technol., P.O. Box 5031, 2600 GA Delft, NLD) ,  VERHEIJEN Marcel A. (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD) ,  GREGORKIEWICZ Tom (Van der Waals-Zeeman Inst., Univ. of Amsterdam, Sci. Park 904, 1098 XH Amsterdam, NLD) ,  VAN DE SANDEN Mauritius C. M. (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 113  号： 13  ページ： 134306-134306-10  発行年： 2013年04月07日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *プラズマ処理 ,  スループット ,  アルゴン ,  シラン ,  混合気体 ,  熱プラズマ ,  Raman分光法 ,  ナノ粒子 ,  可視発光スペクトル ,  半導体薄膜
準シソーラス用語： *シリコンナノ結晶

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 対数 ,  サイズ分布 ,  自立 ,  シリコンナノ結晶 ,  高スループット ,  プラズマプロセシング