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J-GLOBAL ID：201302277221325032   整理番号：13A1773253

シンクロトロン放射X線源によるソフトマテリアルの表面及び埋蔵界面構造の特性化

Characterization of Surface and Buried Interface Structure of Soft Materials by Synchrotron Radiation X-ray Source

著者 (9件)： TAKAHARA Atsushi (Kyushu Univ.) ,  TAKAHARA Atsushi (JST-ERATO, Fukuoka, JPN) ,  SHINOHARA Takamichi (Kyushu Univ.) ,  NOJIM Shiki (Kyushu Univ.) ,  HOSHINO Taiki (JST-ERATO, Fukuoka, JPN) ,  ISHIGE Ryohei (Kyushu Univ.) ,  MURAKAMI Daiki (JST-ERATO, Fukuoka, JPN) ,  HIGAKI Yuji (Kyushu Univ.) ,  HIGAKI Yuji (JST-ERATO, Fukuoka, JPN)
資料名： Abstract. JSAP-MRS Joint Symposia (CD-ROM)  (Abstract. JSAP-MRS Joint Symposia (CD-ROM))
ページ： ROMBUNNO.17A-M7-1  発行年： 2013年 
JST資料番号： M20130006  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *フッ素化重合体 ,  *表面構造 ,  界面 ,  *内部構造 ,  分子集合体 ,  *小角X線散乱 ,  結晶構造 ,  充填 ,  *示差走査熱量測定 ,  相分離 ,  分子配向 ,  押付成形 ,  構造解析 ,  非破壊検査 ,  ポリ乳酸 ,  *X線回折
準シソーラス用語： *シンクロトロン放射光X線回折 ,  ナノインプリント ,  *界面構造 ,  最密充填 ,  垂直配向 ,  *微小角入射小角X線散乱 ,  分子凝集体 ,  *埋蔵界面

分類 (3件)： 分子構造と性質の実験的研究  (CB01020I) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (4件)： シンクロトロン放射X線 ,  ソフトマテリアル ,  界面構造 ,  特性化