パルス直流反応性マグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrN<sub>x</sub>薄膜の特性に及ぼすデューティサイクルの影響

CHANG Chi-Lung; WU Bo-Yi; CHEN Pin-Hung; CHEN Wei-Chih; HO Chun-Ta; WU Wan-Yu

文献

J-GLOBAL ID：201302277308528401 整理番号：13A1936997

パルス直流反応性マグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrN_x薄膜の特性に及ぼすデューティサイクルの影響

Effect of Duty Cycle on Characteristics of CrN_x Thin Films Deposited by Pulsed Direct Current Reactive Magnetron Sputtering

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資料名：
巻： 52 号： 11,Issue 2 ページ： 11NB08.1-11NB08.5 発行年： 2013年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

珪素ウエハ,304ステンレス鋼,炭化タングステン基板上にパルス直流反応性マグネトロンスパッタリングによりCrN_x薄膜を蒸着した。10kHzユニポーラモードと17.5%の窒素/Ar比を用いた。蒸着中基板はバイアスせず,30分間の全蒸着を通して加熱しなかった。得られたCrN_x薄膜の微細構造,結晶相,機械的性質を試験し,デューティサイクルの影響を調べた。デューティサイクルを100%(直流)から5%へ低下させると,最高電流とパワー密度が増加した。デューティサイクル低下と共に薄膜は薄くなったが,パルスオン時間に対する厚みの比は5%.の最小デューティサイクルで273.3nm/minの最大値を示した。得られたCrN_x薄膜はCr2N相とCrN相の混合を示した。また,Cr-N結合状態とCrN及びCr2Nの百分率はデューティサイクルと共に変化した。デューティサイクルが薄膜の硬度,摩擦係数,腐食挙動に及ぼす影響も調べた。(翻訳著者抄録)

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その他の無機化合物の薄膜

引用文献 (19件)：

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パルス直流反応性マグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrNx薄膜の特性に及ぼすデューティサイクルの影響

パルス直流反応性マグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrN_x薄膜の特性に及ぼすデューティサイクルの影響