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J-GLOBAL ID:201302277432462524   整理番号:13A1744783

無電解Ni-Pその場析出と後アニーリングにおよぼす静磁場の効果

The Effect of Static Magnetic Field on Electroless Ni-P In Situ Deposition and Post-annealing
著者 (6件):
資料名:
巻: 22  号: 10  ページ: 3134-3139  発行年: 2013年10月 
JST資料番号: C0161B  ISSN: 1059-9495  CODEN: JMEPEG  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では無電解Ni-P析出プロセスと後アニーリングにおよぼす4Tの静磁場の影響について観察した。示差走査熱量計での測定結果から,無電解析出中に負荷した高磁場は250°C近辺でのNi-P合金加熱後の欠陥移動と消滅に好影響をもたらす事が判った。さらに,300°C(結晶化温度以下)での磁気アニーリング後にいくつかの準安定相が存在する事,および磁気アニーリングNi-P合金の硬度は通常のアニールされたNi-P合金のそれより大きい事も分かった。走査電子顕微鏡によりNi-P合金の形態を特徴づけ,析出のままのNi-P合金には典型的な球状結節組織を観察した。これら球状結節組織の境界は焼鈍後に不明瞭となるが300°C磁気アニーリング後には境界は明確に観察できた。Copyright 2013 ASM International Translated from English into Japanese by JST.
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無電解めっき 
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