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J-GLOBAL ID：201302277697509999   整理番号：13A1776245

低圧プラズマスパッタリングにおける回転マグネトロンの制約付最適化

Constrained Optimization of Rotating Magnetron in Low-Pressure Plasma Sputtering

著者 (1件)： BELIKOV Sergey (NT-MDT Dev., AZ)
資料名： Proceedings of the American Control Conference  (Proceedings of the American Control Conference)
巻： 2013 Vol.8  ページ： 6661-6666  発行年： 2013年 
JST資料番号： B0982A  ISSN： 0743-1619  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 均一な物理蒸着(PVD)を実現する回転マグネトロンの設計のための最適化モデルを提案した。回転マグネトロンスパッタシステムは,真空室に対抗して置いたサブストレートとターゲット,回転マグネトロン,直流電源で構成した。均一なスイープを実現するマグネトロンの永久磁石配置法を示し,スパッター速度と蒸着速度を関係付ける形態係数を導いた。スパッタ速度制御の最適化をl_∞最適化問題としてとらえ,制約付最適化に好適な線形プログラミングモデル法を用い,均一素材ターゲットと複合材料ターゲットのモデル化を提案した。大型サブストレートのためのターゲット材料を節約したPVD法を示した。PVDの設計例で設計した会話型設計システムを使用し,ターゲットのスパッター速度が均一になり,提案の方法と設計システムの有効性を示した。

シソーラス用語： *最適化 ,  *スパッタリング ,  *マグネトロン ,  物理蒸着 ,  ターゲット ,  基質 ,  線形計画法
準シソーラス用語： PVD ,  サブストレート ,  *プラズマスパッタリング ,  *制約付最適化 ,  線形プログラミング

分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  システム最適化手法  (IA02050Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低圧 ,  プラズマスパッタリング ,  マグネトロン ,  制約付最適化