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J-GLOBAL ID:201302277735590231   整理番号:13A0896654

流動層リアクター中の粒状ポリシリコン製造に於けるSiCl4の再循環

Recycling of SiCl4 in the manufacture of granular polysilicon in a fluidized bed reactor
著者 (4件):
資料名:
巻: 220  ページ: 81-88  発行年: 2013年03月15日 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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トリクロロシラン(SiHCl3)とシリコンテトラクロライド(SiCl4)の混合物から流動層リアクター(FBR)中の粒状ポリシリコンの製造について研究した。反応温度(800-1200°C),H2のSiHCl3及びSiCl4に対するモル比(0-100%)の影響を研究した。反応ガスをガスクロマトグラフ(GC)により分析した。生成粒子の表面モルフォロジーを走査電子顕微鏡により分析した。良く成長した製品粒子が得られた。反応温度と反応体組成は顕著にSi収率と生成する析出Siのkg当たりのSiCl4量に影響した。結果はSiHCl3とSiCl4の混合物を反応体としてFBR中で用いることによって正味ゼロの副生SiCl4を実現出来ることを示し,一方充分なSi収率は残った。この為の適切な反応条件は1200°Cに於いてH2/SiHCl3/SiCl4のモル比が16/0.5/0.5であった。これに対応するSiHCl3のワンスル-転化率とSi収率はそれぞれ21.1%と9.6%で,これは純粋SiHCl3を使う改善されたSiemens法より高かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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反応操作(単位反応) 
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