USHIROGATA Keisuke について
FUJIFILM Corp., Kanagawa, JPN について
USHIROGATA Keisuke について
National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN について
SODEYAMA Keitaro について
Kyoto Univ., Kyoto, JPN について
SODEYAMA Keitaro について
National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN について
OKUNO Yukihiro について
FUJIFILM Corp., Kanagawa, JPN について
OKUNO Yukihiro について
National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN について
TATEYAMA Yoshitaka について
National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN について
TATEYAMA Yoshitaka について
Kyoto Univ., Kyoto, JPN について
TATEYAMA Yoshitaka について
JST-PRESTO and JST-CREST, Saitama, JPN について
Journal of the American Chemical Society について
フルオロリン酸塩 について
リチウム化合物 について
固液界面 について
電解質 について
反応機構 について
密度汎関数法 について
分解 について
一電子還元 について
充放電サイクル について
酸素複素環化合物 について
ガスクロマトグラフ について
ガス発生 について
ヘキサフルオロリン酸リチウム について
二次電池 について
オキサゾール,イソオキサゾール について
電極過程 について
リチウムイオン電池 について
固体電解質 について
インターフェース について
カルボナート について
溶媒 について
還元 について
分解 について
添加物効果 について