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J-GLOBAL ID：201302277991647224   整理番号：12A1790808

高出力レーザーシステムを実現する光学技術 高出力レーザー対応光学部品の超平坦化

Realization of Ultra-Flat Surfaces in Optical Components Accepted for High Power Laser Applications Using Non-Adiabatic Optical Near-Field Etching

著者 (4件)： 多幡能徳 (シグマ光機) ,  平田和也 (シグマ光機) ,  森本隆志 (シグマ光機) ,  原口康史 (シグマ光機)
資料名： 光学  (Japanese Journal of Optics)
巻： 41  号： 12  ページ： 614-620  発行年： 2012年12月10日 
JST資料番号： G0125B  ISSN： 0389-6625  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光学ガラス基板や結晶などの表面の平坦化は化学機械研磨により行われている。研磨の粒径や研磨パッド表面の凹凸などが影響し,理想的平坦面の実現は困難となっている。本論文では,高出力光源に対応可能な光学部品の表面を超平坦に加工する技術について紹介した。表面粗さとレーザー耐性の関係,従来技術の展望,近接場光エッチングの原理,実験装置と実験結果について解説した。本技術は,光学素子の性能向上にとどまらず,半導体露光装置やレーザー加工装置および光源装置への波及効果が大きい。また,装置の小型化,低価格化などの大きな波及効果が期待されることを指摘した。

シソーラス用語： *レーザシステム ,  *高出力レーザ ,  フォトエッチング ,  レーザ加工 ,  化学研磨 ,  切削工具 ,  光学ガラス ,  *光学系 ,  *研磨 ,  化学機械研磨
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  研磨パッド ,  光エッチング ,  *光学部品 ,  実験結果 ,  性能向上

分類 (3件)： レーザ一般  (BD04030T) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  研削  (QC03000R)

引用文献 (6件)：

• KAWAZOE, T. Exposure dependence of the developed depth in nonadiabatic photolithography using visible optical near fields. J. Nanophotonics. 2007, 1
• 大津元一編著. ナノフォトニックデバイス・加工. 2008
• KULLMER, R. Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere, I. Pulsed irradiation. Appl. Phys. A. 1987, 43, 227-232
• YATSUI, T. Realization of an ultra-flat silica surface with angstrom-scale average roughness using nonadiabatic optical near-field etching. Appl. Phys. B : Lasers Opt. 2008, 93, 55-57
• FUJIYOSHI, Y. Numerical simulation for nonadiabatic optical near-field etching. The 7th Asia-Pacific Conference on Near-field Optics, 2009. 2009, 25-27

タイトルに関連する用語 (4件)： 高出力レーザー ,  光学技術 ,  光学部品 ,  平坦化