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J-GLOBAL ID：201302278800482022   整理番号：13A1290818

重合体は高分解能表面誘導体化,ニューロン位置付けおよび誘導に対するマスクをはがす

Polymer Peel-Off Mask for High-Resolution Surface Derivatization, Neuron Placement and Guidance

著者 (7件)： MARTINEZ Dolores (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN) ,  PY Christophe (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN) ,  DENHOFF Mike (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN) ,  MONETTE Robert (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN) ,  COMAS Tanya (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN) ,  KRANTIS Anthony (Univ. Ottawa, Ontario, CAN) ,  MEALING Geoffrey (National Res. Council of Canada, Ontario, CAN)
資料名： Biotechnology and Bioengineering  (Biotechnology and Bioengineering)
巻： 110  号： 8  ページ： 2236-2241  発行年： 2013年08月 
JST資料番号： D0019A  ISSN： 0006-3592  CODEN： BIBIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィーおよび反応性イオンエッチング技術を用いて,二酸化ケイ素上に重合体をパターン化した。プラスチックは化学修飾中二酸化ケイ素表面に効率的に接着し,誘導体化後容易にリフトオフされ,信頼性の高い表面誘導体化を行わせた。反応性イオンの垂直性は,サブミクロンの内容をパターン化させた。この技術を用いて,二酸化ケイ素表面においてニューロンをパターン化した。50μm以上のパターンに対し4mm範囲にわたる効率的ニューロン位置付けが示され,10μmパターンに対しプロセス誘導が示された。

シソーラス用語： *重合体 ,  高分解能 ,  表面 ,  *誘導体化 ,  *ニューロン ,  リソグラフィー ,  RIE【エッチング】 ,  二酸化ケイ素 ,  パターン形成 ,  プラスチック ,  化学修飾
準シソーラス用語： パターン化 ,  反応性イオンエッチング

分類 (4件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  細胞学一般  (EF01000A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 重合体 ,  高分解能 ,  誘導体化 ,  ニューロン ,  誘導 ,  マスク