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J-GLOBAL ID：201302279693731525   整理番号：13A1758418

NSR-S622D液浸スキャナのmix-and-matchオーバレイ性能

Mix-and-match overlay performance of the NSR-S622D immersion scanner

著者 (7件)： MAKINO Katsushi (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  KIKUCHI Takahisa (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  SASAMOTO Satoru (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  HONGKI Park (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  MORI Akiko (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  TAKAHASHI Nobuyuki (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  WAKAMOTO Shinji (Nikon Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8683  ページ： 86830Q.1-86830Q.12  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 製品のオーバレイはmix-and-matchオーバレイ(MMO)とsingle-machineオーバレイ(SMO)からなる。22nm以細ハーフピッチではMMO確度の向上が不可欠で,そのためにはMMO誤差を低減する必要がある。MMO誤差の主な源はSMO,レンズ歪マッチング,ウエハグリッドマッチングである。ニコンのNSR-S622D液浸スキャナのMMOは単一ロットで2.58nm,安定性(3σ)は2.93nm,SMOは単一ロットで1.92nm,安定性(3σ)は2.09nmである。

シソーラス用語： *走査装置 ,  *フォトリソグラフィー ,  回路パターン形成 ,  歪 ,  マッチング ,  安定性 ,  レチクル ,  精度 ,  *重合せ
準シソーラス用語： *オーバレイ【重合せ】 ,  *液浸スキャナ ,  *液浸リソグラフィー ,  装置間重合せ精度 ,  露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： NSR ,  液浸 ,  スキャナ ,  オーバレイ