文献
J-GLOBAL ID:201302280793548289   整理番号:13A0235936

シリコン太陽電池用の逆ピラミッド作製におけるTMAHとKOHのエッチング特性の違い

Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells
著者 (6件):
資料名:
巻: 264  ページ: 761-766  発行年: 2013年01月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
シリコン太陽電池用の逆ピラミッド作製における一連の比較エッチング実験をパターン化(100)Si上で異なるエッチング液濃度と温度でテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)と水酸化カリウム(KOH)を使って実行した。これらの実験結果は,TMAH溶液はKOH溶液に比して高いアンダーカット率と低い(100)面エッチ速度を持ち,TMAHの(111)/(100)エッチング速度比はKOH溶液のそれの2~3倍であることを示した。さらに,SiO2マスクのエッチ速度はTMAHにおける方がKOHにおけるよりも一桁低かった。さらに,表面モルフォロジー解析から,TMAHエッチングが,KOHエッチングよりも,鋭い先端,滑らかな(111)側壁,汚染無し表面をもつ,はるかに高品質の逆ピラミッドをもたらし,TMAHエッチング試料をよりよい反射防止特性にしていることが分かった。最終的に,1.8%の低い最小反射率をもつTMAHエッチング試料がSiO2反射率コーティングで被覆された逆ピラミッド型で得られた。従って,本研究によって,TMAHがKOHに比して逆ピラミッド調製に魅力的であることが明らかになった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  太陽電池 
物質索引 (1件):
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです

前のページに戻る