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J-GLOBAL ID:201302282750789218   整理番号:13A0146847

TiN膜の微細構造及び表面特性に及ぼすパルスバイアスデューティ比の効果

Effects of pulsed bias duty ratio on microstructure and surface properties of TiN films
著者 (11件):
資料名:
巻: 89  ページ: 185-189  発行年: 2013年03月 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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TiN膜を,アークイオンプレーティングシステムを用いて,Cr18Ni9Tiステンレス鋼基板上に堆積した。デューティ比の増大と共に,マクロ粒子の量は減少し,表面粗さは,60%デューティ比において,0.074μmであった。TiN膜は,強い(111)優先配向を示したが,他の面は,大きくは変化しなかった。TiN膜の硬度は,60%デューティ比において,1160HVの最大硬度に達した。40%デューティ比において堆積したTiN膜は,腐食に対する最良の耐性を示した。TiN被覆試料の腐食電流密度は,非被覆試料より二桁低かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
分類
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金属材料へのセラミック被覆  ,  固体の機械的性質一般  ,  防食  ,  腐食 
タイトルに関連する用語 (3件):
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