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J-GLOBAL ID：201302283073328906   整理番号：13A1227751

焦点がぼけたディジタル粒子画像の速度計測使用によるマイクロインプリントリソグラフィーにおけるレジスト注入挙動に関する実験的研究

Experimental research on resist filling behavior in microimprint lithography by using defocusing digital particle image velocimetry

著者 (4件)： JUN Du (Xi’an Jiaotong Univ., State Key Lab. of Manufacturing System Engineering, 710049, Xi’an, CHN) ,  ZHENGYING Wei (Xi’an Jiaotong Univ., State Key Lab. of Manufacturing System Engineering, 710049, Xi’an, CHN) ,  SHIZE Li (Xi’an Jiaotong Univ., State Key Lab. of Manufacturing System Engineering, 710049, Xi’an, CHN) ,  YIPING Tang (Xi’an Jiaotong Univ., State Key Lab. of Manufacturing System Engineering, 710049, Xi’an, CHN)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 19  号： 8  ページ： 1229-1238  発行年： 2013年08月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レジスト注入挙動は,マイクロインプリントリソグラフィの最終的なインプリントパターンの品質に関しては重要である。レジストのマイクロスケール速度場を実現するために,3D焦点ぼけディジタル粒子画像の速度計測(DDPIV)システムを確立した。500nm蛍光トレーサ粒子を,正3角形を形成した3つの開口を持ったマスクによって生成されたDDPIV画像から推測した。粒子の空間座標を使って,レジスト内部の時間分解された3D粒子場を得た。インプリンティングの順序の中で,粒子空間位置から速度場を導出するために,粒子追跡速度計測法を使った。抽出した軌跡に沿って粒子の速度履歴を記述した。その結果は,レジストの最大速度がモールドコーナと支持する基板の間の領域に常に位置していることを示し,一方,垂直方向のレジストの速度成分はゼロに近い。レジストの容量移動特性を粒子場と速度場の視点から図示し,これはレジスト注入メカニズムを明らかにするのを助け,モールド構造最適化に向かって有用なガイダンスを提供するであろう。Copyright 2012 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 粒子画像流速測定 ,  *レジスト ,  速度測定 ,  *注入 ,  速度 ,  *リソグラフィー ,  場
準シソーラス用語： *インプリントリソグラフィー ,  速度場 ,  注入速度

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  成形工程とその装置一般  (YH04030C)

タイトルに関連する用語 (7件)： 焦点 ,  ディジタル ,  速度計測 ,  レジスト ,  注入 ,  挙動 ,  実験的研究