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J-GLOBAL ID：201302283345766924   整理番号：13A0622895

コリンクロリド水溶液から銅表面への持続的な銀堆積

Sustained Deposition of Silver on Copper Surface from Choline Chloride Aqueous Solution

著者 (6件)： WANG Yurong (Changzhou Univ., Changzhou, CHN) ,  WANG Yurong (Key Lab. of Fine Petrochemicals of Jiangsu Province, Changzhou, CHN) ,  ZHOU Yang (Changzhou Univ., Changzhou, CHN) ,  WANG Wenchang (Changzhou Univ., Changzhou, CHN) ,  CHEN Zhidong (Changzhou Univ., Changzhou, CHN) ,  CHEN Zhidong (Key Lab. of Fine Petrochemicals of Jiangsu Province, Changzhou, CHN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 160  号： 3  ページ： D119-D123  発行年： 2013年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硝酸銀/コリンクロリド水溶液からの電着により銅基板上に銀薄層を形成した。触媒,還元剤なしに良好な銀薄膜が生成した。走査電子顕微鏡,X線回折,原子吸光分析によりキャラクタリゼーションを行った。Sn₆₃Pb₃₇合金融解によりハンダづけ適性を調べた。2ケ月の保存でコリンクロリド電解質溶液の変質は僅少であった。紫外可視吸収スペクトル,サイクリックボルタンメトリーによりコリンクロリドの作用機構を検討した。最適コリンクロリド濃度を求めた。電着の活性化エネルギーを決定した。

シソーラス用語： 電解質溶液 ,  銅 ,  *銀 ,  *電着 ,  薄膜 ,  添加物効果 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線回折 ,  原子吸光分析 ,  スズ合金 ,  鉛含有合金 ,  溶融金属 ,  性質 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  サイクリックボルタンメトリー ,  反応機構 ,  活性化エネルギー ,  表面構造 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族アルコール ,  第四アンモニウム ,  アミノアルコール
準シソーラス用語： はんだ付性 ,  薄層 ,  融解金属

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電極過程  (CB07040U) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

物質索引 (1件)： コリンクロリド

タイトルに関連する用語 (5件)： コリンクロリド ,  水溶液 ,  銅 ,  銀 ,  堆積