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J-GLOBAL ID：201302284875049065   整理番号：13A0826259

ステップアンド走査リソグラフィーのウエハ及びレチクルステージの同期制御戦略

Synchronous Control Strategy of Wafer and Reticle Stage of Step and Scan Lithography

著者 (5件)： LI Lanlan (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.) ,  LI Lanlan (Graduate Univ., Chinese Acad. Sci.) ,  HU Song (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.) ,  ZHAO Lixin (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.) ,  MA Ping (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8418  ページ： 84180M.1-84180M.6  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ステップアンド走査リソグラフィーにおいて良好な像品質を得るには露光中のレチクルステージとウエハステージの同期が重要である。この同期を効果的に行う方法を考察し,その性能をシミュレーションにより調べた。両ステージ共に粗及び精細積層ステージからなる構造を持つので,先ずその特性を解析して粗及び精細ステージの結合効果を低減する方法を論じた。レチクル及びウエハステージの同期に関しては,三種の異なる制御モード(両ステージの並列結合,直列結合,交差結合)を提案し,それぞれの特徴や問題点を示した。最後に,ウエハ及びレチクルステージの特性の相違から,両者の同期誤差を補償するにはレチクルステージを用いるのがよいことを指摘した。シミュレーションの結果,これにより良好な同期性能が得られ,同期誤差は擾乱なしで0.5nm以下になることが示された。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *ウエハ【IC】 ,  *レチクル ,  *同期制御 ,  誤差 ,  フォトリソグラフィー ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： *ステップアンドスキャンリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 走査 ,  リソグラフィー ,  ウエハ ,  制御戦略