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J-GLOBAL ID：201302285261283300   整理番号：13A0483968

マスクとして炭素硬マスク(CHM)によるCF₄エッチングを用いた23nm直径ブロック共重合体自己集合ナノドットのパターン移動

Pattern Transfer of 23-nm-Diameter Block Copolymer Self-Assembled Nanodots Using CF₄ Etching with Carbon Hard Mask (CHM) as Mask

著者 (5件)： HUDA Miftakhul (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  LIU Jing (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  BIN MOHAMAD Zulfakri (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  YIN You (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  HOSAKA Sumio (Gunma Univ., Kiryu, JPN)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 737  ページ： 133-136  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： マスク ,  炭素 ,  CHM ,  エッチング ,  直径 ,  ブロック共重合体 ,  自己集合 ,  ナノドット