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J-GLOBAL ID：201302285827976880   整理番号：13A1928620

ウェットプロセスによる高機能磁性薄膜の創製

著者 (4件)： 逢坂哲彌 (早稲田大) ,  蜂巣琢磨 (早稲田大) ,  杉山敦史 (早稲田大) ,  横島時彦 (早稲田大)
資料名： 日本磁気学会研究会資料  (Bulletin of Topical Symposium of the Magnetics Society of Japan)
巻： 192nd  ページ： 19-25  発行年： 2013年11月19日 
JST資料番号： Z0979A  ISSN： 1882-2940  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  製造 ,  電気めっき ,  電極 ,  界面 ,  電気化学 ,  *軟磁性材料 ,  *硬磁性材料 ,  ニッケル合金 ,  鉄含有合金 ,  コバルト含有合金 ,  リン含有合金 ,  ナノ結晶 ,  ナノ粒子 ,  フォトリソグラフィー ,  磁気ヘッド ,  記憶媒体 ,  磁気記録 ,  保磁力 ,  磁気ディスク ,  磁気センサ ,  レビュー ,  *湿式法 ,  記録

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： ウェットプロセス ,  磁性薄膜 ,  創製