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J-GLOBAL ID：201302287501119123   整理番号：13A0253123

ハイブリッド変調パルスパワーおよびパルスDCマグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrSiNナノ複合被膜の構造と性質

Structure and properties of CrSiN nanocomposite coatings deposited by hybrid modulated pulsed power and pulsed dc magnetron sputtering

著者 (7件)： LIN Jianliang (Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Colorado ...) ,  WANG Bo (Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Colorado ...) ,  OU Yixiang (Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Colorado ...) ,  SPROUL William D. (Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Colorado ...) ,  SPROUL William D. (Reactive Sputtering, Inc., 2152 Goya Place, San Marcos, CA 92078, USA) ,  DAHAN Isaac (Nuclear Res. Center, Beer-Sheva 84190, ISR) ,  MOORE John J. (Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Colorado ...)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 216  ページ： 251-258  発行年： 2013年02月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CrおよびSiターゲットから,それぞれ変調パルスパワーマグネトロンスパッタリング(MPPMS)およびパルスdcマグネトロンスパッタリング(PDCMS)を使って共スパッタリングにより,閉磁場非平衡マグネトロンスパッタリング系中室温でCrSiNナノ複合被膜を蒸着した。スパッタリング源の一つとしてのMPPMPの適用は,スパッタされる材料の高イオン化度並びにパルス高パワー法を使うことにより高プラズマ密度を発生させることを目的とした。Si含有量が4.8at%未満の時は,Si原子は,主にCrN格子中に入り,固溶体を形成する。Si含有量が,7.7at%に達すると,ナノ複合材料構造が,CrSiN被膜中に生成し,その中に5~8nmのCr(Si)Nナノ結晶が,非晶質Si₃N₄マトリックス中に埋め込まれた。固溶体強化と完全相分離が,CrSiN被膜の機械的性質の強化の原因であると考えられた。最大硬度38GPa,H/E比0.096,およびH³/E^*2比0.31GPaが,Si含有量6.7%の被覆で同定された。Si含有量が6.7at%および10.2at%の被膜は,耐摩耗性の用途むけとして最適化されることが分った。また,MPPMS+PDCMS CrSiN被膜もまた,3.5wt%NaCl水溶液中で試験したAISI304ステンレス鋼試料と比べて改良された腐食抵抗性を示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 母材 ,  *オーステナイト系ステンレス鋼 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  *窒化物 ,  *ケイ化物 ,  *クロム化合物 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  ターゲット ,  クロム ,  窒素 ,  ナノ構造 ,  *複合膜 ,  ナノ複合材料 ,  膜構造 ,  *機械的性質 ,  硬度 ,  耐摩耗性 ,  耐食性
準シソーラス用語： AISI304 ,  Siウエハ ,  ケイ窒化クロム ,  コスパッタリング ,  ナノ複合膜 ,  パルスパワー ,  基材 ,  腐食抵抗性

分類 (3件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (7件)： 変調 ,  パルスパワー ,  パルス ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  複合被膜 ,  性質