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J-GLOBAL ID：201302287649515788   整理番号：13A1660144

アンダー露光でアンダーベーキングのフォトレジストモールドを用いた,光学的に透明なPDMS人工的ハスの葉状膜の作製

Fabrication of Optically Transparent PDMS Artificial Lotus Leaf Film Using Underexposed and Underbaked Photoresist Mold

著者 (3件)： YOON Youngsam (Univ. Texas at Dallas, TX, USA) ,  LEE Dong-Weon (Chonnam National Univ., Gwangju, KOR) ,  LEE Jeong-Bong (Univ. Texas at Dallas, TX, USA)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 22  号： 5  ページ： 1073-1080  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アンダー露光でアンダーベーキングのポジ型フォトレジスト(PR)モールドを用いて,光学的に透明な超疎水性のポリジメチルシロキサン(PDMS)薄膜を作る極めて単純な方法を報告する。最適なアンダー露光でアンダーベーキングの状態は,PRモールドにユニークな階層的マイクロ/ナノ構造を形成し,PRモールドの逆像を繰り返して,階層的なミクロ/ナノ構造ブロッコリ形状PDMS薄膜を形成する。更に超疎水性を強化するために,厚さ100nmのフルオロカーボン膜を,ブロッコリ形状PDMS膜に成膜する。4μL水液滴膜の前進角度および退却角度は,それぞれ161.33±0.763°および133.33±0.29°であり,超疎水性を示す。このPDMS膜について550nm付近の光透過率がほぼ90%であることも分かった。

シソーラス用語： ポリジメチルシロキサン ,  *疎水性 ,  透明導電膜 ,  *フォトレジスト ,  溶解速度 ,  現像 ,  *ナノ構造 ,  *高分子薄膜 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  光透過 ,  露光 ,  *フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  超疎水性
準シソーラス用語： フルオロカーボン ,  露光不足 ,  ソフトリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (9件)： 露光 ,  ベーキング ,  フォトレジスト ,  モールド ,  光学 ,  PDMS ,  人工 ,  ハス ,  作製