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J-GLOBAL ID:201302288266341570   整理番号:13A1155753

Co基フルホイスラー合金を用いた半導体への高効率スピン注入

High spin injection efficiency into semiconductor by using Co based Heusler alloys
著者 (1件):
資料名:
巻: 2012  ページ: NO.56 (WEB ONLY)  発行年: 2012年 
JST資料番号: U0002A  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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情報機器・デバイスの高性能化のために,新規スピントロニクスデバイスの開発が進められており,室温で半導体に高効率でスピン注入することが求められている。本研究では,強磁性体から半導体中への高効率スピン注入の実現を目指し,Co2Fe(Al,Si)合金とGaAsを用いた素子を作製し,GaAs中へのスピン注入を行い,構造が電気伝導特性・スピン注入におよぼす影響について調べる。Co2Fe(Al,Si)/MgO/n-GaAs/MgO/Co2Fe(Al,Si)素子および面内スピンバルブ型の素子において,磁気抵抗比が観測され,n-GaAsへのスピン注入に成功した。また,ハンル効果を用いたスピン注入の評価により,Co2Fe(Al,Si)の作製温度,GaAsのドープ量がスピン注入効率に影響することが明らかとなった。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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金属結晶の電子伝導  ,  半導体結晶の電気伝導 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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