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J-GLOBAL ID：201302288401730310   整理番号：13A1355043

反応性表面上でのZIF-8膜のlayer-by-layer水性迅速合成

Layer-by-layer aqueous rapid synthesis of ZIF-8 films on a reactive surface

著者 (7件)： KIDA Koji (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  FUJITA Kosuke (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  SHIMADA Tomoko (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Shunsuke (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Shunsuke (Kansai Univ., JPN) ,  MIYAKE Yoshikazu (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  MIYAKE Yoshikazu (Kansai Univ., JPN)
資料名： Dalton Transactions  (Dalton Transactions)
巻： 42  号： 31  ページ： 11128-11135  発行年： 2013年08月21日 
JST資料番号： A0270A  ISSN： 1477-9226  CODEN： DTARAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゼオライトイミダゾレートフレーム構造-8(ZIF-8)膜の厚みを制御するための新しい方法を報告した。室温で適切な成分の水溶液中でガラススライドを浸漬することによって薄膜ZIF-8が簡単に調製された。ボトム-アップ合成を伴う支持体改質技術を用いたZIF-8の調製,水性系でのZIF-8膜の調製,および亜鉛源の反応性の研究,の均一で連続なZIF-8膜を得るための3つの戦略を研究した。膜厚みは,成長サイクルを繰り返すことおよび適切な亜鉛源を選択することによって制御された。Zn(OAc)₂の反応性が,同じ濃度でのZn(NO₃)₂のそれよりも低く,低-反応性成長溶液を用いて密なZIF-8膜が得られることがわかった。2次成長を遅くすることが,基体に平行な{110}平面の好まれない配向を引き起こし,配向された成長が進展選択モデルによって説明付けられた。

シソーラス用語： *亜鉛錯体 ,  *薄膜成長 ,  膜厚 ,  表面改質 ,  水溶液 ,  固液界面 ,  不均一系反応
準シソーラス用語： *配位重合体 ,  *LBL成長 ,  界面反応

分類 (3件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (2件)： 2-メチルイミダゾール ,  3-(2-イミダゾリン-1-イル)プロピルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (2件)： 反応性 ,  ZIF-8