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J-GLOBAL ID：201302289120303001   整理番号：13A0353371

ALD法により調製したZnO膜の成長モード,光学的および機械的性質に及ぼす蒸着温度の影響

The influence of deposition temperature on growth mode, optical and mechanical properties of ZnO films prepared by the ALD method

著者 (9件)： YUAN N.y. (Center for Low-Dimensional Materials, Micro-Nano Devices and System, Changzhou Univ., Changzhou 213164, CHN) ,  YUAN N.y. (Jiangsu Key Lab. for Solar Cell Materials and Technol., Changzhou 213164, CHN) ,  WANG S.y. (Center for Low-Dimensional Materials, Micro-Nano Devices and System, Changzhou Univ., Changzhou 213164, CHN) ,  TAN C.b. (Center for Low-Dimensional Materials, Micro-Nano Devices and System, Changzhou Univ., Changzhou 213164, CHN) ,  WANG X.q. (Center for Low-Dimensional Materials, Micro-Nano Devices and System, Changzhou Univ., Changzhou 213164, CHN) ,  WANG X.q. (Jiangsu Key Lab. for Solar Cell Materials and Technol., Changzhou 213164, CHN) ,  CHEN G.g. (Center for Micro/Nano Sci. and Technol., Jiangsu Univ., Zhenjiang 212013, CHN) ,  DING J.n. (Center for Low-Dimensional Materials, Micro-Nano Devices and System, Changzhou Univ., Changzhou 213164, CHN) ,  DING J.n. (Jiangsu Key Lab. for Solar Cell Materials and Technol., Changzhou 213164, CHN)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 366  ページ： 43-46  発行年： 2013年03月01日 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 50~200°C範囲の種々の温度で原子層蒸着(ALD)法によりガラス基板上にナノ結晶ZnO薄膜を蒸着させた。ZnO膜の膜成長モード,成長速度,光学的および機械的性質に及ぼす蒸着温度の影響を調べた。100°Cの臨界温度でZnO膜は一連の変化を示した。X線回折(XRD),原子間力顕微鏡法(AFM),UV-visスペクトル,室温光ルミネセンス(PL)とナノインデンテーション測定を用いてこれらの変化を解析した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *基板温度 ,  ナノ結晶 ,  成長速度 ,  *機械的性質 ,  *光学的性質 ,  臨界温度 ,  X線回折 ,  顕微鏡観察 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  光ルミネセンス ,  ナノインデンテーション
準シソーラス用語： *原子層蒸着 ,  原子間力顕微鏡法

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： ALD ,  調製 ,  ZnO ,  成長モード ,  光学 ,  機械的性質 ,  蒸着温度