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J-GLOBAL ID：201302290431237590   整理番号：13A0811176

Applied Materials VIISta高電流注入装置上でのホウ素注入のための四フッ化二ホウ素(B₂F₄)のビーム電流改善と線源寿命性能

Beam current improvement and source life performance of diboron tetrafluoride (B₂F₄) for boron implantation on applied materials VIISta high current implanters

著者 (5件)： TANG Ying (ATMI, Inc., CT, USA) ,  BASSOM Neil J. (Applied Materials Inc., MA, USA) ,  YOUNG James (Applied Materials Inc., MA, USA) ,  SWEENEY Joseph (ATMI, Inc., CT, USA) ,  RAY Richard (ATMI, Inc., CT, USA)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 1496  ページ： 386-389  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高電流 ,  注入装置 ,  ホウ素 ,  ビーム電流 ,  線源 ,  寿命