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J-GLOBAL ID：201302290572060830   整理番号：13A1758443

高出力化: 多重パターン形成と450nmウエハリソグラフィーの両方に必要な120W注入同期ArFエキシマレーザ

Power up: 120 Watt injection-locked ArF excimer laser required for both multi-patterning and 450mm wafer lithography

著者 (9件)： ASAYAMA Takeshi (Gigaphoton Inc.) ,  SASAKI Yoichi (Gigaphoton Inc.) ,  NAGASHIMA Takayuki (Gigaphoton Inc.) ,  KUROSU Akihiko (Gigaphoton Inc.) ,  TSUSHIMA Hiroaki (Gigaphoton Inc.) ,  KUMAZAKI Takahito (Gigaphoton Inc.) ,  KAKIZAKI Kouji (Gigaphoton Inc.) ,  MATSUNAGA Takashi (Gigaphoton Inc.) ,  MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton Inc.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8683  ページ： 86831G.1-86831G.10  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArF液浸リソグラフィーは45nmノードの大量生産に広く利用されている。32nm以細ノードではEUV迄の繋ぎとして二重パターン形成が考えられている。企業の要求(高スループット,高開口数)を充たすために,Gigaphoton社はGT6xAシリーズのレーザを供給している。現在,193nm ArFエキシマレーザは液浸リソグラフィー以外に,多重パターン形成や大型ウエハ(直径450mm)などの先端リソグラフィー技術に応用できる。本論文では,先端的のArFエキシマレーザ(出力120W)の性能を示した。

シソーラス用語： 高出力レーザ ,  *エキシマレーザ ,  *フォトリソグラフィー ,  注入同期 ,  ウエハ【IC】 ,  回路パターン形成 ,  レーザビーム ,  安定性
準シソーラス用語： *ArFレーザ ,  *液浸リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高出力化 ,  多重 ,  パターン形成 ,  ウエハ ,  リソグラフィー ,  注入同期 ,  ArFエキシマレーザ