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J-GLOBAL ID：201302290644656953   整理番号：13A0247911

DCマグネトロンスパッタリングにより堆積したCrWN膜の微細構造,機械的及びトライボロジー特性

Microstructure, mechanical and tribological properties of CrWN films deposited by DC magnetron sputtering

著者 (7件)： WU Wan-yu (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  WU Chia-hao (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  XIAO Bo-hong (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  YANG Ting-xin (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  LIN Shi-yi (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  CHEN Ping-hung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN) ,  CHANG Chi-lung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, MingDao Univ., Taiwan, TWN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 87  ページ： 209-212  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化クロムタングステン(CrWN)膜をDCマグネトロン反応性共スパッタリングにより,シリコン基板上に堆積した。膜の形態及び微細構造を,SEM,XRD,HRTEM,及びEPMAにより調べた。機械的及びトライボロジー特性を,ナノインデンタ及びボールオンディスクトライボメータにより,それぞれ評価した。堆積時膜は,CrNが主な結晶構成体であるナノ複合体微細構造を示した。ナノ複合体CrWN膜は低い表面粗さ及び約25.1GPaの最高硬度を示した。膜はW含有量に依存して0.15と0.3の間の可変摩擦係数を示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *クロム化合物 ,  *タングステン化合物 ,  *窒化物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  ウエハ【IC】 ,  *ナノ複合材料 ,  微細構造 ,  表面粗さ ,  *摩擦係数 ,  *スパッタ蒸着 ,  反応性スパッタリング ,  *セラミック被覆 ,  *微小硬さ ,  ナノインデンテーション ,  トライボロジー
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  DCマグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (4件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  微細構造 ,  トライボロジー特性