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J-GLOBAL ID:201302290931792973   整理番号:13A0088556

オンチップ光回路のためのBCB貼り付けを用いたSi基板上InP薄膜受動素子の特性

Characteristics of InP-based passive devices of Si substrate with BCB adhesive wafer bonding for on-chip interconnects
著者 (6件):
資料名:
巻: 112  号: 371(OPE2012 134-142)  ページ: 39-44  発行年: 2012年12月14日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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Si-LSI上InP系薄膜光集積回路の実現のために,その基本要素である細線導波路とそれを利用した受動素子の設計と作製法の検討を行った。BCB(Benzocyclobutene)を介してSi基板上に形成したGaInAsP薄膜に,電子線描画法とドライエッチングで作製したGaInAsP細線導波路の側壁粗さと伝搬損失の関係を明らかにし,低損失化技術の検証を行った。その結果,Si基板上化合物細線導波路において最小値となる4dB/cmの伝搬損失を達成した。次に,この作製法を用いて,光信号を2分岐する多モード干渉導波路の構造設計・作製を行い,c-band内で平均挿入損失3dBを得た。また,レーザと細線導波路間のモード分布の不一致による結合損失を計算し,各素子間にテーパ型モード変換器を挿入することにより結合効率を99%に向上する集積素子の構造設計を行った。(著者抄録)
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分類 (1件):
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光集積回路,集積光学 
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