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J-GLOBAL ID：201302291550329424   整理番号：13A1466119

光電子用途の新しいSnO₂:Al/ZnO:F二重層の製作

Fabrication of a novel SnO₂:Al/ZnO:F bi-layer for opto-electronic applications

著者 (5件)： RAVIKUMAR P. (A.V.V.M. Sri Pushpam Coll. (Autonomous), P.G and Res. Dep. of Physics, Poondi, 613 503, Thanjavur, Tamil Nadu, IND) ,  RAVICHANDRAN K. (A.V.V.M. Sri Pushpam Coll. (Autonomous), P.G and Res. Dep. of Physics, Poondi, 613 503, Thanjavur, Tamil Nadu, IND) ,  SAKTHIVEL B. (A.V.V.M. Sri Pushpam Coll. (Autonomous), P.G and Res. Dep. of Physics, Poondi, 613 503, Thanjavur, Tamil Nadu, IND) ,  BEGUM N. Jabena (A.V.V.M. Sri Pushpam Coll. (Autonomous), P.G and Res. Dep. of Physics, Poondi, 613 503, Thanjavur, Tamil Nadu, IND) ,  RAVICHANDRAN A. T. (National Coll. (Autonomous), P.G and Res. Dep. of Physics, 620 001, Tiruchirappalli, Tamil Nadu, IND)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 24  号： 10  ページ： 4092-4097  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単層アルミニウムドープ酸化すず(ATO),ふっ素ドープ酸化亜鉛(FZO)および二重層ATO/FZO薄膜を,低価格で単純化した噴霧熱分解法を用いて予熱したガラス基板(T_s=340±5°C)上に堆積した。二重層ATO/FZO薄膜の構造的,光学的,電気的および表面形態特性を調査し,単層膜のそれらと比較した。可視領域における二重層膜の平均光透過率は約80%であることが分かった。二重層ATO/FZO膜は,ATOとFZO膜の独特で望ましい特徴である,それぞれ,可視領域における良好な透過率と鋭い吸収端の両者を保有した。二重層コーティングの光バンドギャップ(E_g)値(3.22eV)は,単層ATO(3.71eV)とFZO(3.20eV)膜のE_g値の間にあることが分かった。ATOとFZO単層のシート抵抗値は,それぞれ3.47と11.2kΩ/sq.であった。二重層ATO/FZO薄膜は4.42kΩ/sq.のシート抵抗を示し,それはATO膜のそれに非常に近く,FZO膜のそれよりも3倍も低い。AFM画像は二重層膜の良好な充填密度と表面の一様性を示した。アニール調査は,ATOの外側の層が二重層膜の熱安定度を著しく改善することをはっきりと示した。Copyright 2013 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 光電子 ,  固体素子 ,  酸化スズ ,  アルミニウム ,  酸化亜鉛 ,  ドーピング ,  フッ素 ,  二重構造 ,  *薄膜成長 ,  半導体薄膜 ,  *透明導電膜 ,  *光学ギャップ ,  シート抵抗 ,  オプトエレクトロニクス ,  電気材料 ,  光学的性質 ,  微細構造
準シソーラス用語： 光電子デバイス ,  二酸化スズ ,  二重層構造

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光電子 ,  用途 ,  Al ,  ZnO ,  重層 ,  製作