文献

J-GLOBAL ID：201302294594352783   整理番号：13A0927969

Nイオンビームにより爆撃したTiO₂膜の組成と光学的性質に対する作業圧力の効果

The effect of working pressure on the composition and optical properties of TiO₂ films bombarded by N ion beam

著者 (8件)： YAO Tingting (Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN) ,  LIU Honglin (Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN) ,  DING Wanyu (Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN) ,  DING Wanyu (Liaoning Province Education Dep. Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Dalian, CHN) ,  DING Wanyu (Dalian Univ. Technol., Dalian, CHN) ,  JU Dongying (Saitama Inst. Technol., Fukaya, JPN) ,  CHAI Weiping (Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN) ,  CHAI Weiping (Liaoning Province Education Dep. Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Dalian, CHN)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 750  ページ： 302-305  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンビーム ,  TiO2 ,  組成 ,  光学的性質 ,  作業圧力