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J-GLOBAL ID：201302296453232418   整理番号：13A1870113

短期自動相関データに対するQチャートの適用

APPLICATION OF Q CHARTS FOR SHORT-RUN AUTOCORRELATED DATA

著者 (4件)： KAWAMURA Hironobu (Univ. Tsukuba, Tsukuba, JPN) ,  NISHINA Ken (Nagoya Inst. Technol., Nagoya City, JPN) ,  HIGASHIDE Masanobu (Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  SUZUKI Tomomichi (Tokyo Univ. Sci., Noda City, JPN)
資料名： International Journal of Innovative Computing, Information and Control  (International Journal of Innovative Computing, Information and Control)
巻： 9  号： 9  ページ： 3667-3676  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： F1199A  ISSN： 1349-4198  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 伝統的なチャートは,データが独立で等分布し,プロセスパラメータを評価し管理限界を計算するための本番運転前に,大歴史データセットが利用できるプロセスに対し設計されている。多くのプロセスは,特に半導体製造において,しばしば,高混合,小容量から生じる,限られたデータセットを必要とする。多くの事例において,データは相関している。したがって,短期自動相関データに対しチャート技法が必要である。本論文で筆者らは,半導体製造で使用される垂直低圧化学蒸着プロセスから得た実際のデータに適用することにより,Q統計に基づく制御チャートの有効性を評価した。筆者らの結果は,Qチャートが同じチャート上で異なるタイプのデータをプロットできること,そしてQチャートがデータにおける異常を検出しうることを示した。さらに筆者らは,半導体製造において採用されるプロセスに対し,Q統計と時系列モデルの残差へ適用したQ統計は両方とも実用的で,有用な方法であることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *短期 ,  *相関 ,  *利用 ,  プロセスパラメータ ,  評価 ,  *製造 ,  化学蒸着 ,  図表
準シソーラス用語： チャート【図】 ,  *適用 ,  *半導体製造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (27件)：

• S. V. Crowder, An SPC model for short production runs: Minimizing expected cost, Technometrics, vol.34, no.1, pp.64-73, 1992.
• D. D. Montgomery, Introduction to Statistical Quality Control, John Wiley and Sons, New York, 2009.
• C. P. Quesenberry, The effect of sample size on estimated limits for X-bar and X control charts, J. Qual. Technol., vol.25, no.4, pp.237-247, 1993.
• C. M. Wright, M. Y. Hu and D. E. Booth, Effectiveness of joint estimation when the outlier is the last observation in an autocorrelated short time series, Decision Sci., vol.30, no.3, pp.825-847, 1999.
• C. H. Yang and F. S. Hillier, Mean and variance control chart limits based on small number of subgroups, J. Qual. Technol., vol.2, no.1, pp.9-16, 1970.

タイトルに関連する用語 (3件)： 短期 ,  相関 ,  チャート