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J-GLOBAL ID：201302298165754500   整理番号：13A0055201

QCM(石英結晶微量天秤)に支援されたOCP(開回路電位)測定によるCu無電解析出の実時間観測

Real-Time Observation of Cu Electroless Deposition Using OCP Measurement Assisted by QCM

著者 (5件)： LIM Taeho (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  PARK Kyung Ju (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Myung Jun (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KOO Hyo-Chol (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Jae Jeong (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 12  ページ： D724-D729  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 簡単で絶縁体を含むどのような基板にも利用できることからプリント回路基板および半導体デバイスのメタライゼーションにおいて銅無電解析出(Cu ELD)が非常に注目されている。これに関連して,本研究では,Cu ELD機構について,開回路電位(OCP)測定および石英結晶微量天秤(QCM)を使用して実時間で調べた。EDTAによって浸漬した際の錯形成のためにCu酸化物が除去されることが明らかになった。アルカリ性溶液中でHCHOの形のメチレングリコールアニオンがCu表面上に吸着し,さらなるCuの酸化および溶解が抑制された。少量のCu₂OがEDTA-KOHおよびHCHO-EDTA-KOH溶液への浸漬の際に生成した。全ELD溶液において,誘導期が析出の初期段階において観測され,メチレングリコールアニオンの表面上への吸着および活性化が一つの原因であることが分かった。

シソーラス用語： *銅 ,  *銅錯体 ,  水酸化カリウム ,  アニオン ,  *プリント基板 ,  *無電解めっき ,  微量天秤 ,  電極電位 ,  絶縁材料 ,  半導体素子 ,  *メタライゼーション ,  時間 ,  錯体生成 ,  反応機構 ,  浸漬 ,  吸着 ,  溶液 ,  初期 ,  活性化 ,  X線光電子スペクトル ,  時間依存性 ,  期間 ,  除去 ,  析出 ,  酸化第一銅 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  アミノカルボン酸 ,  ジアミン ,  脂肪族アルデヒド ,  絶縁体
準シソーラス用語： アルカリ性溶液 ,  実時間 ,  石英結晶微量天秤 ,  *半導体素子メタライゼーション ,  表面吸着 ,  誘導期

分類 (5件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  無電解めっき  (WC08024S) ,  プリント回路  (NA05040O) ,  固体デバイス一般  (NC03010Z)

物質索引 (3件)： EDTA ,  ホルムアルデヒド ,  メタンジオール

タイトルに関連する用語 (9件)： QCM ,  石英結晶微量天秤 ,  支援 ,  OCP ,  開回路電位 ,  Cu ,  無電解析出 ,  実時間 ,  観測