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J-GLOBAL ID：201302298364147639   整理番号：13A0487262

深部X線リソグラフィーにより製造された構造の形状に対する現像温度の影響

Influence of developer temperature on the shape of structures fabricated by deep X-ray lithography

著者 (2件)： HORADE Mitsuhiro (JST ERATO Higashiyama Live-Holonics Project, Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, 464-8602, Nagoya, JPN) ,  SUGIYAMA Susumu (Ritsumeikan Univ., 1-1-1 Noji-Higashi, 525-8577, Kusatsu, Shiga, JPN)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 19  号： 3  ページ： 357-362  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,シンクロトロン放射型(SR)深部X線リソグラフィー(DXRL)を用いた三次元(3D)傾斜側壁を持つポリ(メチルメタクリル樹脂)(PMMA)微細構造の製造を提案した。ここでは,傾斜側壁の傾斜角度に分散を生じさせるために,現像温度を変化させた。その結果,そのPMMA側壁傾斜角度および高さは,吸収量,現像時間,現像温度により制御されることを見つけた。現像温度が低い時,その傾斜角度は,吸収量または現像時間に拘わらず,ほとんど0度になった。現像温度が高い時には,傾斜側壁を持つ微細構造が製造された。吸収量および現像時間の増大とともに,傾斜角度が増大する。PMMA側壁角度の制御能力により,傾斜角度が成形プロセスにとっての抜き勾配になる3Dマイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)素子部品のような,微細構造製造技術に対する提案技法の応用を示唆した。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *微細加工 ,  *微細構造 ,  *X線リソグラフィー ,  *現像 ,  温度 ,  重合体 ,  側壁 ,  傾斜角 ,  吸収 ,  生産技術 ,  *MEMS ,  樹脂
準シソーラス用語： ポリメチルメタクリル樹脂 ,  現像温度 ,  深部X線リソグラフィー ,  製造技術

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  X線技術  (BA02060D) ,  撮影,現像,焼付け,引伸し  (ZA02030U)

タイトルに関連する用語 (3件)： 深部 ,  X線リソグラフィー ,  現像