特許
J-GLOBAL ID：201303002405228093

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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吉田 勲

吉田 勲 について

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山下 裕子

山下 裕子 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-076373
公開番号（公開出願番号）：特開2013-082665
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる、特定の塩を酸発生剤として含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。L1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基等を表す。L2及びL3は、それぞれ独立に、単結合、2価の炭素数1〜6の飽和炭化水素基等を表す。環W1及び環W2は、互いに独立に、炭素数3〜36の炭化水素環を表す。R1及びR2は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。R3は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。tは、0〜2の整数を表す。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (6件)：
C07C 309/17 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C07C 381/12 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C07C309/17 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R
Fターム (27件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ79Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN67P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81
引用特許：
審査官引用 (3件)

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