特許
J-GLOBAL ID:201303006230205627

パルス電磁波を用いた計測装置及び計測方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 寿一郎
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2011052529
公開番号(公開出願番号):WO2011-096563
出願日: 2011年02月07日
公開日(公表日): 2011年08月11日
要約:
【課題】被検出物質を高感度・高精度に検出可能であるテラヘルツ光を用いた計測装置及び計測方法を提供する。【解決手段】物質検出プレートと、物質検出プレートにパルスレーザー光を照射することで、照射位置における被検出物質の量に依存する振幅強度を持ったパルス電磁波を発生させる手段と、パルス電磁波の振幅強度を検出する検出手段と、を備え、前記振幅強度より、被検出物質を含む溶液の状態の変化を計測するパルス電磁波を用いた計測装置であって、パルスレーザー光を2分割する第1ビームスプリッタと、被検出物質を含む溶液が導入可能である検出領域部と、参照溶液が導入可能である参照領域部と、を備え、2分割されたパルスレーザー光を検出領域部に対応する半導体に照射するとともに、参照領域に対応する半導体に各々照射し、検出領域部及び参照領域部に対応する半導体から発生する各々のパルス電磁波を集光して、ひとつの検出手段により検出する。
請求項(抜粋):
半導体と当該半導体上に作製される絶縁体とを有する物質検出プレートと、 前記物質検出プレートにパルスレーザー光を前記半導体側から照射することで、照射位置における被検出物質の量に依存する振幅強度を持ったパルス電磁波を発生させる手段と、 前記パルス電磁波の振幅強度を検出する検出手段と、を備え、 前記振幅強度より、前記被検出物質を含む溶液の状態の変化を計測するパルス電磁波を用いた計測装置であって、 前記パルスレーザー光を2分割する第1ビームスプリッタと、 前記絶縁体上に配置され、被検出物質を含む溶液が導入可能である検出領域部と、 前記絶縁体上の前記検出領域近傍に配置され、参照溶液が導入可能である参照領域部と、を備え、 前記パルスレーザー光を、前記第1ビームスプリッタにより2分割し、分割された一方のパルスレーザー光を前記検出領域部に対応する前記半導体に照射するとともに、分割された他方のパルスレーザー光を前記参照領域に対応する前記半導体に照射し、前記検出領域及び前記参照領域に対応する前記半導体から発生する各々のパルス電磁波を集光手段により集光して、ひとつの前記検出手段により検出することを特徴とするパルス電磁波を用いた計測装置。
IPC (1件):
G01N 21/35
FI (1件):
G01N21/35 Z
Fターム (11件):
2G059AA01 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE06 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK10 ,  2G059MM08

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