特許
J-GLOBAL ID:201303007546600230

シリコン又はシリコン系材料からなる構造化粒子の製造方法及びそのリチウム二次電池での使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦 ,  大貫 進介
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-503170
公開番号(公開出願番号):特表2013-523588
出願日: 2011年04月08日
公開日(公表日): 2013年06月17日
要約:
本発明は、シリコンを処理してピラー、具体的にはLiイオン電池で活性アノード材料として使用するためのピラー(図2)を形成するための方法に関する。前記プロセス(方法)は簡単である商業化スケールで実施可能である。というのは、濃度が制御される少数の成分のみを含む溶液を使用するものであり、従来の方法に比較してより安価な方法であるからである。エッチング溶液は:0.01から5MのHF、0.002から0.2Mの、前記シリコン表面に核化が可能であり、かつ原子状金属の多孔性層を形成することが可能な金属イオン;0.001から0.7Mの、O2、O3、H2O2、NO3-、S2O82-、NO2-、B4O72-及びClO4-の酸、アンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群から選択される化剤を含む。処理されたシリコンが適切に溶液から取り出される。本方法で製造されたエッチングされた粒子又はファイバは、活性電極材料中に複合化材料の形で使用され得る。
請求項(抜粋):
シリコンを処理するためのプロセスであり、前記プロセスはシリコン含有材料を: 0.01から5MのHF、 0.002から0.2Mの、前記シリコン表面上に核化し、及び原子状金属の領域を含む多孔性層を形成することができる金属イオン; 0.001から0.7Mの、O2、O3、H2O2、NO3-、S2O82-、NO2-、B4O72-及びClO4-の酸、アンモニウム塩又はアルカリ金属塩又はこれらの混合物からなる群から選択される酸化剤、を含む溶液に暴露するステップを含む、プロセス。
IPC (2件):
C01B 33/02 ,  H01M 4/38
FI (2件):
C01B33/02 Z ,  H01M4/38 Z
Fターム (33件):
4G072AA01 ,  4G072BB05 ,  4G072DD01 ,  4G072DD02 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072JJ03 ,  4G072JJ09 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ18 ,  4G072JJ33 ,  4G072NN27 ,  4G072TT01 ,  4G072UU02 ,  4G072UU30 ,  5H050AA19 ,  5H050BA15 ,  5H050CA01 ,  5H050CA07 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CB11 ,  5H050FA17 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050GA14 ,  5H050GA15 ,  5H050HA01 ,  5H050HA05 ,  5H050HA10
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る