特許
J-GLOBAL ID：201303009519150528
磁性細線搭載基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
磯野 道造
, 多田 悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-116023
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242940
出願日： 2012年05月21日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】磁性細線で記録媒体のトラックや空間光変調器の画素が形成され、誤動作し難い磁性細線搭載基板について、微細化を可能とする製造方法を提供する。【解決手段】磁性細線搭載基板10の製造方法は、基板2上に複数の磁性細線1を形成する磁性細線形成工程と、複数の磁性細線1上に樹脂膜9を設け、ナノインプリント法により、樹脂膜9の表面にすべての磁性細線1の直上にわたって細線幅方向に延びた溝部9cを形成するマスク形成工程と、樹脂膜9をマスクとしてエッチングすることにより、それぞれの磁性細線1に樹脂膜9の溝部9cの直下に凹部1cを形成する磁性細線表面エッチング工程と、を行う。磁性細線1における磁区のシフト移動の際に、磁区を区切る磁壁を係止するための凹部1cが、高い寸法精度で形成されるので、動作が安定する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
細線状に形成された磁性体であって複数の磁区が細線方向に区切られて生成する磁性細線を、互いに離間して基板上に複数並設し、前記磁性細線の細線方向に区切る凹部を当該磁性細線の上面の1箇所以上に形成した磁性細線搭載基板を製造する製造方法であって、
前記基板上に、複数の磁性細線を形成する磁性細線形成工程と、
前記複数の磁性細線上に樹脂膜を設け、ナノインプリント法により、前記樹脂膜の表面に、隣り合う2以上の前記磁性細線の直上にわたって細線幅方向に延びた凹溝を1本以上形成するマスク形成工程と、
前記樹脂膜をマスクとしてエッチングすることにより、前記複数の磁性細線のそれぞれに、前記樹脂膜の前記凹溝の直下に前記凹部を形成する磁性細線表面エッチング工程と、を行うことを特徴とする磁性細線搭載基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D112AA05
, 5D112AA17
, 5D112AA24
, 5D112FA04
, 5D112GA00
, 5D112GA02
, 5D112GA20
, 5D112GA23
