特許
J-GLOBAL ID：201303010965798513
薄膜形成方法及び薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
荒船 博司
, 荒船 良男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-034138
公開番号（公開出願番号）：特開2013-128928
出願日： 2013年02月25日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：
【課題】基材の走行にほとんど影響することなくダイスと基材とのクリアランスを狭め、長尺基材に対して膜厚精度の高い薄膜を連続的かつ高速に形成できるようにする。【解決手段】長尺基材を連続的に移送しながら、少なくともその一方の表面に所定の間隔をおいて対向配置されたキャビティを有する塗布ダイスを用いて基材の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法において、塗布ダイスには、キャビティを形成する基材走行方向下流に向かって接近するテーパー部とキャビティの上流側と下流側とを連通するバイパス流路が設けられ、塗布ダイスのキャビティ内へ所定の圧力で材料溶液を供給しながら、バイパス流路に設けられた流量調節手段によりキャビティ内に発生する圧力を調整しつつ、該圧力により生じる塗布ダイスへの反発力が所定の値に保たれるように塗布ダイスに付与する基材へ向かう方向への荷重を制御して長尺基材の表面に薄膜を形成するようにした。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
長尺基材を連続的に移送しながら、少なくともその一方の表面に所定の間隔をおいて対向配置されたキャビティを有する塗布ダイスを用いて1種類以上の材料溶液を塗布し前記長尺基材の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法において、
前記塗布ダイスには、前記キャビティを形成する基材走行方向下流に向かって接近するテーパー部と前記キャビティの上流側と下流側とを連通するバイパス流路が設けられ、
前記塗布ダイスの前記キャビティ内へ所定の圧力で材料溶液を供給しながら、前記バイパス流路に設けられた流量調節手段により、キャビティ内に発生する圧力を調整しつつ、該圧力により生じる前記塗布ダイスへの反発力が所定の値に保たれるように前記塗布ダイスに付与する基材へ向かう方向への荷重を制御して、前記長尺基材の表面に薄膜を形成する薄膜形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4D075AC01
, 4D075AC09
, 4D075AC72
, 4D075AC93
, 4D075BB65X
, 4D075CA48
, 4D075DA03
, 4D075DC21
, 4D075EA07
, 4F041AA12
, 4F041AB01
, 4F041BA12
, 4F041BA34
, 4F041CA02
, 4F041CA16
