特許
J-GLOBAL ID:201303014058628670

スルホン酸基含有ブロックコポリマーおよびその製造方法、顔料分散剤、顔料着色剤組成物、樹脂処理顔料組成物およびその製造方法ならびにカラーフィルター用顔料着色剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 近藤 利英子 ,  菅野 重慶 ,  岡田 薫 ,  阿部 寛志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-169130
公開番号(公開出願番号):特開2013-032441
出願日: 2011年08月02日
公開日(公表日): 2013年02月14日
要約:
【課題】微粒子化された顔料を高度に微分散させることができるとともに、長期保存安定性に優れた顔料着色剤組成物を調製可能な新規なA-Bブロックコポリマー、顔料分散剤、及びその製造方法、並びにそれを用いた顔料着色剤組成物を提供する。【解決手段】90質量%以上がメタクリル酸系モノマーで構成されてなるA-Bブロックコポリマーであり、且つ、A-Bどちらか一方のポリマーブロックのみが、メタクリレートを構成成分として形成されてなる、ベンゼンスルホン酸基がエステル結合を介して結合している下記式1で表される構造部分を持つことを特徴とするスルホン酸基含有ブロックコポリマー。【選択図】なし
請求項(抜粋):
90質量%以上がメタクリル酸系モノマーで構成されてなるA-Bブロックコポリマーであり、且つ、A-Bどちらか一方のポリマーブロックのみが、メタクリレートを構成成分として形成されてなる、ベンゼンスルホン酸基がエステル結合を介して結合している下記式1で表される構造部分を持つことを特徴とするスルホン酸基含有ブロックコポリマー。
IPC (4件):
C08F 297/00 ,  C08L 53/00 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00
FI (4件):
C08F297/00 ,  C08L53/00 ,  C08K3/00 ,  C08K5/00
Fターム (20件):
4J002BP031 ,  4J002DA036 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002EE056 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU026 ,  4J002EU036 ,  4J002EU216 ,  4J002FD096 ,  4J002GQ00 ,  4J026HA11 ,  4J026HA29 ,  4J026HA32 ,  4J026HB11 ,  4J026HB29 ,  4J026HB45 ,  4J026HE01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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